下述关于氧化沟工艺的描述,何项是错误的?______

【正确答案】 C
【答案解析】

[解析] 《室外排水设计规范》。

A正确。6.6.27进水和回流污泥点宜设在缺氧区首端,出水点宜设在充氧器后的好氧区。

B正确。6.6.30曝气转刷、转碟宜安装在沟渠直线段的适当位置,曝气转碟也可安装在沟渠的弯道上,竖轴表曝机应安装在沟渠端部。

C不正确。6.6.7生物反应池中的好氧区(池),好氧区采用机械曝气器时,混合全池污水所需功率不宜小于25W/m3;氧化沟不宜小于15W/m3

D正确。6.6.21氧化沟前可不设初次沉淀池。6.6.24氧化勾可与二次沉淀池分建或合建。

6.6.24条文说明:关于与二次沉淀池分建或合建的规定:

按构造特征和运行方式的不同,氧化沟可分为多种类型,其中有连续运行、与二次沉淀池分建的氧化沟,如Carrousel型多沟串联系统氧化沟、Orbal同心圆或椭圆形氧化沟、DE型交替式氧化沟等;也有集曝气、沉淀于一体的氧化沟,又称合建式氧化沟,如船式一体化氧化沟、T型交替式氧化沟等。提示:三槽氧化沟也称T型氧化沟。