【正确答案】化学气相沉积(CVD)法主要应用于两大方向：一是沉积涂层，二是制取新材料。目前已有数十种涂层材料，包括金属、难熔材料的粉末和晶须以及金刚石、类金刚石薄膜材料。
   1) CVD沉积金属。金属有机化合物以及金属羟基化合物已经成功地用来沉积相应的金属。用这种方法沉积的金属包括Cu、Pb、Fe、Co、Ni、Ru、In、Pt以及耐酸金属W、Mo等。其他金属大部分可以通过它们的卤化物的分解或歧化反应来沉积，最普通的卤化物就是氯化物。
   2) CVD沉积各种功能涂层。CVD涂层可用于要求抗氧化、耐磨、耐蚀以及某些电学、光学和摩擦学性能的部件，主要是在工件表面沉积超硬耐磨涂层或减靡涂层等。
   3) CVD制备难熔材料的粉末和晶须。CVD法可沉积多种化合物晶须如Al₂O₃、TiN、Cr₃C₂、SiC、Si₃N₄、ZrC、ZrN、ZrO₂等。
   4) CVD法制备金刚石、类金刚石薄膜材料。