摘要
随着侦查预警探测等成像光学系统性能不断提高,纳米精度自由曲面光学元件将是下一代成像光学系统的主角。当前如何实现纳米精度自由曲面光学元件检测,成为高性能成像光学系统研制的瓶颈难题。干涉测量是普遍使用的光学面形测量方法,然而受传统干涉测量镜头和补偿器固定形式限制,难以满足制造中局部大误差检测和灵活适应不同复杂面形的需求,严重影响了自由曲面光学元件的加工效率和质量。针对这一瓶颈,论文开展自适应可变干涉检测基础研究,创新点包括如下几个方面。
出处
《机械工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2021年第22期375-375,共1页
Journal of Mechanical Engineering
