摘要
采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究。结果表明,采用多弧离子镀膜工艺,能在经过恰当预处理的镁合金基底上制备出性能良好的TiN膜,膜层均匀、致密,膜基结合力达130 mN以上,复合硬度达500 HV左右(AZ91镁合金基底为125 HV)。此外中性盐雾强化实验表明,经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下,腐蚀速率明显降低,经过200 h后,表面无明显腐蚀现象。真空多弧离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用。
TiN films grown on Ti as interlayers were prepared on AZ91C magnesium alloy substrate by cathodic multi arc ion plating.The surface morphology,microstructure and hardness of the films were examined using high-resolution scanning electron microscope(SEM),X-ray energy diffraction spectrometers(EDS) and microcharacter hardness tester.The results show that TiN films with good performance can be obtained on the properly pretreated magnesium substrate by the multi arc ion plating technique.The adhesion force betw...
出处
《腐蚀与防护》
CAS
北大核心
2008年第4期182-184,共3页
Corrosion & Protection
基金
国家支撑计划项目(编号:2006BAE04B05-3)
国家高技术研究发展计划(编号:2006AA05Z411)
教育部长江学者与创新团队发展计划项目(编号:IRT0629)
国家自然基金资助项目(编号:50505037)
关键词
镁合金
阴极多弧离子
TiN复合层
magnesium and alloy
cathodic multi arc ion plating
TiN film
