摘要
本文简要介绍了微电子光刻技术的发展和现有的一些可替代技术及其优缺点,并介绍了一些利用常规方法和工艺手段实现局域或自组装纳米结构的方法。
A brief review of the development of the photolithography and some understudies is given. Some fabrication techniques of localized or self-assemble nanostructure is also introduced.
出处
《中国集成电路》
2002年第11期70-74,共5页
China lntegrated Circuit
