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XPS Study of Single Crystalline Si Irradiated with Ar Ions at low Temperature

XPS Study of Single Crystalline Si Irradiated with Ar Ions at low Temperature
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摘要 XPSStudyofSingleCrystallineSiIrradiatedwithArIonsatlowTemperature¥LiuChanglong;HouMingdong;ChengSong;WangZhiguang;ZhuZhiyong;...
出处 《IMP & HIRFL Annual Report》 1996年第1期79-80,共2页 中国科学院近代物理研究所和兰州重离子研究装置年报(英文版)
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