氧化钒薄膜制备与特性研究被引量：5

PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF IR SENSITIVE VANADIUM OXIDE THIN FILMS

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摘要用磁控反应溅射法制备出具有红外敏感特性的氧化钒薄膜,进行了薄膜光电特性的测试。通过AFM和XRD对薄膜的结构和特性进行分析研究,并给出了沉积参数对薄膜性能的影响。 IR sensitive vanadium oxide thin films have been prepared by reactive magnetron sputtering. Structural and electrical properties have been characterized by AFM, XRD. Influence of deposition parameters on thin film properties was given.

作者梁耀廷崔敬忠达道安刘向李智

机构地区兰州物理研究所

出处《真空与低温》 2004年第2期71-74,共4页 Vacuum and Cryogenics

关键词氧化钒薄膜薄膜性能沉积参数磁控反应溅射光电特性特性研究 XRD 膜制备 AFM 敏感 vanadium oxide thin film electrical property

分类号 O484 [理学—固体物理]

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