摘要
结合微接触印刷术和TiO2沉积成膜技术,在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的TiO2薄膜,并利用XPS,SEM和AFM对其表面性质和结构进行了表征.该硅基图案化TiO2微结构在光电转化、微机电和光催化等领域中的应用具有重要意义.
Micro-patterned TiO_2 films on Si wafers was fabricated by selective deposition and microcontact printing technique. X-ray photoelectron spectroscopy(XPS), scanning electron microscope(SEM) and atomic force microscopy(AFM) were used to examine the properties and microstructure of the patterned TiO_2 films. This patterned TiO_2 microstructures may be widely used in the field of photonics, optics, sensing and microelectromechanical system(MEMS).
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期599-602,共4页
Chemical Journal of Chinese Universities
基金
国家自然科学基金(批准号:20473106)
国家"九七三"计划(批准号:2003CB716200)资助.
关键词
微图案
微接触印刷术
TiO2微结构
Micro-patterns
Microcontact printing
TiO_2 microstructures
