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几种特气在半导体工艺中的应用

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摘要在半导体工艺中，如低压化学气相沉积法（LCVD）制备多晶硅和氮化硅薄膜，以及等离子刻蚀等工艺，都要使用特种气体。有些特种气体我国已有生产，如氨气、氯化氢。有些特种气体在半导体工艺中很有用途，但到目前为止，还没有生产单位，或质量没有过关。现介绍我所在半导体工艺中需用的几种特种气体。

作者于凤来

机构地区中国科学院半导体研究所

出处《低温与特气》 CAS 1985年第3期42-44,共3页 Low Temperature and Specialty Gases

关键词半导体工艺特种气体应用等离子刻蚀低压化学气相沉积法三氟甲烷乙硅烷

分类号 TQ117 [化学工程—无机化工] TN305 [电子电信—物理电子学]

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低温与特气

1985年第3期

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