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金属表面制备KH-560硅烷膜涂层
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摘要
有关专家通过试验制备了有望取代磷化和铬酸盐钝化的KH-560硅烷膜,采用了红外反射吸光谱(RA-IR)分析KH-560硅烷膜的成分和结构、电导率法在线监测硅烷偶联剂水解程度,以涂层拉伸法测试膜的结合强度,研究了影响硅烷膜性能的各项制备工艺条件。
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2005年第7期63-64,共2页
Electroplating & Finishing
关键词
KH-560
硅烷膜
表面制备
涂层
金属
制备工艺条件
铬酸盐钝化
硅烷偶联剂
红外反射
水解程度
在线监测
电导率法
结合强度
拉伸法
膜性能
分类号
TQ460.6 [化学工程—制药化工]
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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电镀与涂饰
2005年 第7期
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