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多弧离子沉积(Ti,AI)N薄膜的制备工艺 被引量:3

DEPOSITION TECHNIQUE OF(TI,Al)N FILM BY MULTI ARC ION
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摘要 介绍了采用多弧离子镀的方法在新型热作模具钢(CH75)表面沉积(Ti,Al)N薄膜的制备工艺,讨论了工艺参数对(Ti,Al)N薄膜性能的影响。对Ti/Al机械复合靶进行了结构设计,得出靶的名义Al含量与沉积的(Ti,Al)N薄膜的Al含量相符合。 Deposition technique of(Ti,Al)N Film by Multi-arc ion plating on CH75 hot die steel was intrcduced in this paper.The influence of technologic parameter on property of(Ti,Al)N film was discussed.The structure of Ti/Al mechanic compound targets were designed and its content Of Al was shown no difference to(Ti,Al)N content of Al.
机构地区 华中理工大学
出处 《兵器材料科学与工程》 CSCD 北大核心 1995年第5期25-29,共5页 Ordnance Material Science and Engineering
基金 国家教委博士点基金重点
关键词 薄膜 多弧离子镀 金属 表面处理 Ti,Al)N film,multi-arc ion plating,mechanic compounc target,solvent clean
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参考文献3

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共引文献10

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