光诱导化学汽相淀积(LCVD)技术的研究进展被引量：1

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摘要光诱导化学汽相淀(?)(LCVD)技术是一种新的低温化薄膜制备技术.本文首先评述了LCVD技术的特点、原理和装置,然后着重讨论了利用这种技术制备金属、半导体与化合物和介质薄膜以及一些淀积规律,最后指出了LCVD技术尚待解决的若干问题.

作者宋登元

机构地区河北大学电子系

出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第2期1-6,共6页 Semiconductor Technology

关键词光诱导化学汽相淀积 LCVD

参考文献1

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半导体技术

1989年第2期

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