摘要
叙述了电子回旋共振（ＥＣＲ）微波等离子体技术的基本工作原理、主要特点以及发展概况，着重从ＥＣＲ等离子体实验系统、工艺应用、诊断技术和机理研究等方面对ＥＣＲ技术进行了讨论。由于ＥＣＲ微波等离子体技术具有密度高、电离度大、工作气压低、表面损伤小等特点，在反应离子刻蚀（ＲＩＥ）、等离子体化学气相淀积（ＣＶＤ）和溅射方面具有广阔的应用前景。
The microwave electron cyclotron resonance(ECR)plasma technology,its basic princi-ple,main features and advances are discussed in this paper.Emphasis is laid on the processingsystem,its applications,the plasma diagnosing technology and the study of its mechanism.Because of high density,high ionization,low pressure and small damage,ECR plasma can bewidely used in RIE,Plasma CVD and Sputtering.
出处
《西安电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第4期425-434,共10页
Journal of Xidian University
关键词
电子回旋共振
等离子体
刻蚀
VLSI
electron cyclotron resonance(ECR)
plasma
reactive ion etching(RIE)
chemical vapor deposition(CVD)
sputtering
