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真空量子效应力、静电力和残余应力联合作用下的微米/纳米微机电系统可靠性分析(英文)

Reliability of Micro/Nano-Electromechanical System in Environment of Electrostatic Field, Casimir Force and Residual Stress
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摘要 由于微米/纳米机电系统(MEMS/NEMS)尺寸方面的特点和制造方面的原因,当对其施加一静电场时,它除了受到静电力外还不可避免地受到真空量子效应力(Casimir力)和残余应力的作用。在这3种力的联合作用下,其变形行为也变得极为复杂。本文导出了微米/纳米微机电系统中桥式薄膜结构在这3种力联合作用下的挠度解析表达式。在不同条件下对其解进行了分析讨论。结果表明:大的残余拉应力将促使微桥薄膜的挠度出现波状行为。 As electric field is applied, the behaviors of micro / nano-electromechanical systems become complicated due to the unavoidable mutual actions of Casimir force, residual stresses and electrostatic force in the system. Analytical expressions of the deflection of a bridge shaped device under the mutual actions of these forces in the systems are derived. It is shown that the rather great tensile residual stress enhances wavy behavior of the deflection.
出处 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1524-1527,共4页 Rare Metal Materials and Engineering
基金 Project (59831040) Supported by the National Natural Science Foundation of China Project (0411050100) Supported by the Natural Science Foundation of Henan Province
关键词 CASIMIR力 静电力 残余应力 薄膜 挠度行为 Casimir force electrostatic force residual stresses film deflection behavior
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献1

  • 1Chen Guoping(陈国平 ).Physics and Technique of Films(薄膜物理与技术)[M].Nanjing: Southeast University Press,1993.160~164.

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