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纳米压印光刻技术及其发展现状 被引量：2

Nano-imprint Technology and Its Present Development
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摘要 文章详细介绍了有望成为下一代主流的光刻技术——纳米压印光刻技术。并概述了其应用, 同时介绍了其在现阶段的发展状况。 This paper detailedly introduced Nano-imprint technology which is hopeful becoming the next generation lithography technology. And its application and present development status are also summarized.
作者 李洪珠
机构地区 中国电子科技集团公司第
出处 《电子与封装》 2005年第12期1-5,共5页 Electronics & Packaging
关键词 压印光刻 发展状况 Nano-imprint Development
分类号 TN305.17 [电子电信—物理电子学]
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献45

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共引文献23

同被引文献42

引证文献2

二级引证文献20

电子与封装
2005年 第12期

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