TiN在氧等离子体灰化器中的氧化
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3郑亮,唐明.小型等离子清洗蛐刻蚀机的应用[J].电子工业专用设备,2004,33(9):33-38. 被引量：1
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4赖海长,郭兴龙.后段工艺干法去除光刻胶研究[J].电子与封装,2011,11(6):23-26.
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5徐大林,丁欣,侯智,刘祖宏,郑载润,刘锋.O_2/SF_6气氛下光刻胶灰化反应的机理研究[J].真空科学与技术学报,2012,32(12):1109-1113. 被引量：3
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7刘翔,王章涛,崔祥彦,邓振波,邱海军.薄膜晶体管阵列四次光刻工艺中光刻胶灰化工艺的研究[J].液晶与显示,2008,23(2):183-187. 被引量：6
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8FSI发布全新无灰化、湿法光刻胶去除ViPR工艺技术[J].电子产品世界,2006,13(06X):101-101.
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9Hiroshi Tokutaka.在ICE设备上进行低材料灰化技术(英文)[J].电子工业专用设备,2005,34(3):63-68.
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10郑亮,唐明.小型等离子清洗/刻蚀机的应用[J].微纳电子技术,2004,41(7):42-46. 被引量：1
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