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气相沉积技术的现状与发展 被引量:6

Current Situation and Development Trend of Vapor Deposition Technology
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摘要 本文阐述了气相沉积技术的发展和应用,概括了此技术在我国的现状,分析并展望其未来的发展,还注意到了研究领域中的动向和趋势。 The development and use of Vapor deposition technology in our country are presented in this paper. The future development of this technology is analysed.
出处 《华北航天工业学院学报》 2006年第3期26-28,共3页 Journal of North China Institute of Astronautic Engineering
关键词 气相沉积 等离子 超硬覆层 vapor deposition plasma superhard coating
  • 相关文献

参考文献1

  • 1汪泓宏 田明波.离子束表面强化[M].北京:机械工业出版社,1992..

共引文献18

同被引文献103

引证文献6

二级引证文献33

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