摘要
用质谱仪作检测器，用程序升温脱附方法（ＴＰＤ）研究了不同来源及用不同方法处理的氮化硅和氮化铝粉末的表面吸附。结果表明，加热时主要的脱附物质是ＮＨ３，ＮＨ２，Ｈ２，Ｎ２和Ｈ２Ｏ。用有机化合物处理的所谓防水氮化铝，还脱附碳氢基因。用水和丙醇处理粉末不能有效地除去吸附物质，但在真空中加热能完全除去，在氮气中加热能除去大部分。
出处
《硅酸盐学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第5期537-546,共10页
Journal of The Chinese Ceramic Society
