真空间隙的直流脉冲长延时击穿

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摘要就高压真空绝缘来说，导致真空电击穿的过程尤其是在大触头开距和长延时情形下的击穿过程，到目的为止尚有诸多不明了的地方。近期的测量结果表明，机械冲击是导致间隙击穿的原因。击穿几年在原始触头条件下最高，而在经过大电流燃弧后有所降低。非金属杂质和遥机杂质在击穿过程中起着重要作用。与可式真空灭弧室相比，商用真空灭弧室没有对机械冲击表现出任何敏感性。除了击穿几率与延时之外。

作者陈军平

出处《旭光技术》 1996年第3期52-57,共6页

关键词真空间隙真空电击穿真空灭弧室

分类号 TM561.501 [电气工程—电器]

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