对于SoC,尺寸决定一切

原文传递

导出

摘要采用90nm和65nm工艺的决定因素是什么？商业和技术的推动；定义最优裸片尺寸；裸片尺寸优化新方法；

作者 Bernadette Mortell

机构地区 Synopsys公司

出处《电子设计技术 EDN CHINA》 2007年第4期178-178,180,181,共3页 EDN CHINA

关键词尺寸优化 SOC 65nm工艺技术商业定义

1张林中,周东方,牛忠霞.特高频微带天线的分步尺寸优化[J].信息工程大学学报,2005,6(3):71-73.
2蔡洁,廖小平,朱健.Ku波段交直流分离的MEMS开关的模拟与设计[J].中国机械工程,2005,16(z1):121-123.
3周宪华,徐勇,罗勇,蒲友雷.Ka波段宽带TE_(01)~d-TE_(10)~W多孔定向耦合器的设计[J].真空科学与技术学报,2014,34(6):593-598. 被引量：2
4杨华中,汪蕙,刘润生,范崇治.基于优化技术的单元级模拟集成电路综合器[J].电子学报,1996,24(8):72-75. 被引量：2
5冯嘉鹏,赵红东,孙渤,段磊,郭正泽,陈洁萌,姚奕洋.GaN基HEMT器件的优化设计[J].半导体技术,2014,39(11):817-821. 被引量：2
6LTC2606：具有I^2C接口的18位单调Vout DAC[J].世界电子元器件,2005(4):78-78.
7席沛丽,徐有栓,崔雷,赵迪.星载SAR方位多通道收发天线尺寸优化方法研究[J].上海航天,2014,31(5):48-53.
8文玉.IT之窗[J].广播电视信息,2007(10):14-15.
9规范液晶电视屏幕尺寸优化上下游产业链[J].电子与电脑,2007(10):109-109.
10梁涛,贾新章,陈军峰.Accurate metamodels of device parameters and their applications in performance modeling and optimization of analog integrated circuits[J].Journal of Semiconductors,2009,30(11):114-120.

电子设计技术 EDN CHINA

2007年第4期

浏览历史

内容加载中请稍等...