摘要
利用金属有机化合物气相沉积(MOCVD)方法在Al2O3(1 1 2 0)衬底上生长高质量的ZnO薄膜,在衬底温度450℃及生长舱压力40 Pa的条件下,我们得到了ZnO纳米管.利用X射线衍射(XRD)对样品的结构进行了分析,利用光致发光(PL)对样品的光学性能进行了评价.
The ZnO films were deposited by metal organic compound vapor deposition （MOCVD） method on substrate Al2O3（ 1 1 0）. The film with nanotube structure was obtained at deposition temperature 450℃ and pressure 40 Pa. The structure and optical properties were investigated by XRD and PL spectrum.
出处
《通化师范学院学报》
2007年第4期1-2,5,共3页
Journal of Tonghua Normal University
基金
2006年吉林省教育厅资助科研项目
关键词
金属有机化合物气相沉积
ZNO薄膜
生长温度
压力
metal organic compound vapor deposition （MOCVD）
ZnO films
growth temperature
pressure
