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低压反应离子镀新工艺及其设备 被引量:2

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摘要 采用低压反应离子镀沉积技术,制备光学薄膜质量有着显著的改善。我们利用此技术沉积的TiO2、SiO2和Al2O3膜,其折射率分别为255、149(550nm)和167(1100nm),比传统的电子束蒸发好得多。用此方法,在CR39基片每面沉积4层TiO2/SiO2抗反薄膜,剩余反射率≤05%。
出处 《电子工业专用设备》 1997年第2期36-44,54,共10页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
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引证文献2

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