微电子工业中的清洗方法被引量：11

下载PDF

导出

摘要首先简介半导体工业中的常规清洗方法，而后，有比较地介绍近年推广使用的电子清洗剂。

作者杨培根

机构地区电子工业部第十三研究所

出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期46-49,共4页 Semiconductor Technology

关键词腐蚀清洗电子清洗剂半导体集成电路

同被引文献80

1李大庆.替代ODS物质技术创新的系统性思考——碳氢溶剂清洗技术与传统清洗技术的比较研究[J].洗净技术,2004(9):46-49. 被引量：4
2津崎真彰,李健.替代ODS清洗用氟系溶剂的介绍[J].洗净技术,2004(9):60-66. 被引量：2
3周治任.碳氢清洗剂及其清洗设备[J].洗净技术,2004(10):42-51. 被引量：10
4梁励芬,董树忠.用STM研究HF,O_2和H_2O混合气体对Si(100)表面的作用[J].Journal of Semiconductors,1997,18(2):81-84. 被引量：2
5朱步瑶赵振国.界面化学基础[M].北京:化学工业出版社,1996..
6铃木道夫等.大规模集成电路工厂洁净技术[M].北京:电子工业出版社,1990..
7俞晖.晶体清洗工艺的优化选取及影响[J].半导体技术,1993,(1):54-7.
8张树永郭永榔等.超大规模集成电路硅片清洗技术的进展[J].化学进展,1999,12(1):104-108.
9－.电子工业生产技术手册[M].北京:国防工业出版社,1997..
10中国清洗行业整体淘汰ODS特别工作组.中国淘汰ODS清洗剂政策及替代技术汇编[M].北京:电子工业出版社,1999..

1黄浩,魏喆良,唐电.半导体金属互连集成技术的进展与趋势[J].金属热处理,2004,29(8):26-31. 被引量：12
2李薇薇,刘玉岭,李广福.一种新型的LCD清洗剂[J].电子工艺技术,2005,26(1):35-36. 被引量：2
3王娟,刘玉岭,张建新.微电子用硅溶胶的纯化[J].半导体技术,2005,30(9):17-19. 被引量：1
4周海,杭寅,姚绍峰.蓝宝石晶片表面净化技术研究[J].电子机械工程,2005,21(6):42-45. 被引量：4
5王娟,刘玉岭,李薇薇,檀柏梅.微电子专用硅溶胶的纯化机理探究[J].电子器件,2005,28(4):930-933. 被引量：2
6李广福,刘玉岭,李薇薇.LCD残留液晶的清洗[J].清洗世界,2006,22(9):24-28. 被引量：4
7文九巴,樊丽梅,赵胜利,祝要民.单晶硅化学蚀刻行为的研究[J].腐蚀科学与防护技术,2007,19(4):269-271. 被引量：2
8王续跃,许卫星,司马媛,吴东江,康仁科,郭东明.利用图像处理技术评价硅片表面清洗率[J].光学精密工程,2007,15(8):1263-1268. 被引量：6
9刘锋,于凯,李相津,李正蘍,李斗熙.TFT-LCD生产中毛刷清洗工艺的研究[J].现代显示,2007(10):54-56. 被引量：8
10杨洪星,李响,刘春香,赵权.Ge单晶抛光片清洗技术研究[J].半导体技术,2008,33(4):308-310. 被引量：2

1刘荡波,王恩虎.电子清洗剂在KP500A晶闸管制造中的应用[J].电力电子技术,1992(4):50-52. 被引量：1
2袁平.电子清洗剂在纸源扩散工艺中的应用研究[J].电子技术与软件工程,2013(21):118-118.
3祝福生,郭春华,夏楠君.工业泵在湿法腐蚀清洗设备中的应用[J].电子工业专用设备,2016,45(1):43-46. 被引量：4
4刘玉倩,关宏武,高津平,宋文超.一种腐蚀清洗设备中的特异气体监测及处理[J].电子工业专用设备,2017,46(1):28-30.
5曹宝成,马洪磊,罗升旭,刘可辛,于新好,杜信荣,宗福建,李玉香,计锋.新型电子清洗工艺对半导体表面的清洗效果[J].山东大学学报（自然科学版）,1995,30(2):174-177. 被引量：6
6吴光庆.湿法腐蚀清洗设备中的循环管路应用[J].电子工业专用设备,2017,46(2):16-18.
7昆山晶科微电子材料有限公司[J].试剂与精细化学品,2006(4):24-25.
8昆山晶科微电子材料有限公司[J].试剂与精细化学品,2006(5):22-23.
9胡丹.浅析3W、5W系列合金型玻璃钝化封装二极管抗温度循环能力[J].科技经济市场,2015(5):189-189.
10郑佳晶,孙敏,张金凤.LED用蓝宝石晶片湿法腐蚀清洗技术的研究[J].电子工业专用设备,2013,42(9):8-10. 被引量：1

半导体技术

1997年第4期

内容加载中请稍等...