摘要
在GaAs集成电路和器件研制中,离子注入是关键技术之一.介绍了用离子注入GaAs形成n型和p型区,以及离子注入p型和n型GaAs形成绝缘层、形成n+GaAs深埋层等重要技术.对有关物理机制进行了讨论并提出了一些新见解;该离子注入新工艺已经应用于GaAs器件和集成电路的研制,获得了多种新型器件.
Optical and electrical properties of Si GaAs wafers implanted with Si +, S +, Be +, Mg +, B +, O + have been investigated in this paper.
出处
《原子核物理评论》
CAS
CSCD
1997年第3期177-180,共4页
Nuclear Physics Review
基金
国家自然科学基金
国家"863"计划
北京市自然科学基金