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GaAs中的离子注入技术 被引量:1

Ion Implantation in GaAs
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摘要 在GaAs集成电路和器件研制中,离子注入是关键技术之一.介绍了用离子注入GaAs形成n型和p型区,以及离子注入p型和n型GaAs形成绝缘层、形成n+GaAs深埋层等重要技术.对有关物理机制进行了讨论并提出了一些新见解;该离子注入新工艺已经应用于GaAs器件和集成电路的研制,获得了多种新型器件. Optical and electrical properties of Si GaAs wafers implanted with Si +, S +, Be +, Mg +, B +, O + have been investigated in this paper.
出处 《原子核物理评论》 CAS CSCD 1997年第3期177-180,共4页 Nuclear Physics Review
基金 国家自然科学基金 国家"863"计划 北京市自然科学基金
关键词 离子注入 白光快速退火 砷化镓 半导体器件 GaAs ion implantation rapid thermal annealing
  • 相关文献

参考文献5

二级参考文献13

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共引文献7

同被引文献10

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引证文献1

二级引证文献1

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