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热丝法制备多晶硅薄膜的研究进展 被引量：1

DEVELOPMENT AND PROSPECTS OF POLYCRYSTALLINE SILICON THIN FILM MADE BY HOT-WIRE CVD
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摘要 综述了热丝化学气相沉积法(HWCVD),制备多晶硅薄膜的发展过程,着重介绍了这种制备方法在近几年的研究进展,并展望了今后发展趋势和前景。 The development and the latest achievements in the hot-wire chemical vapor deposition （HWCVD） technology were presented in the paper. Moreover, the developing trend and prospects of this technique for poly-Si films were predicted.
作者 柴展 张贵锋
机构地区 大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性实验室
出处 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期1538-1545,共8页 Acta Energiae Solaris Sinica
关键词 热丝化学气相沉积 多晶硅 微晶硅 太阳电池 薄膜晶体管 hot-wire CVD poly-Si μc-Si ： H solar cells TFTs
分类号 TB43 [一般工业技术] TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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共引文献48

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引证文献1

二级引证文献2

太阳能学报
2008年 第12期

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