表面分析仪器和技术进展：二,俄歇电子能谱（AES）
出处
《国外分析仪器技术与应用》
1998年第1期9-16,共8页
Foreign Analytical Instrumentation
-
1黄惠忠.表面分析仪器和技术进展：一,XPS[J].国外分析仪器技术与应用,1997(3):12-13. 被引量：1
-
2刘志雄,石自光,赵兴钰.俄歇电子能谱的数据分析系统和设计考虑[J].电子学报,1990,18(2):116-118. 被引量：1
-
3黄惠忠.表面分析仪器和技术进展（一）：XPS,UPS[J].国外分析仪器技术与应用,1995(4):10-19.
-
4刘德中,薛正鏐.三种实用表面分析仪器的一些进展[J].国外分析仪器技术与应用,1989(3):27-33.
-
5白春礼.原子力显微镜的研制及应用[J].中国科学院院刊,1990,5(4):340-343. 被引量：15
-
6Tom J.Shaffner,张成方.探索表面分析的新领域[J].微电子学,1990,20(1):70-73.
-
7Paul.K Chu,毕宏达.表面分析技术在研究与开发中的应用[J].微电子学,1990,20(1):65-70.
-
8赵国珍,杨武,张美杰,J.Congleton.合金氧化膜的AES分析技术及其应用研究[J].真空科学与技术,1996,16(6):415-420. 被引量：1
-
9黄惠忠.表面分析仪器与技术进展：———四,扫描探针显微术（SPM）（上）[J].国外分析仪器技术与应用,1999(1):9-26. 被引量：6
-
10高义民,方亮,苏俊义,王恩泽.陶瓷─铸铁摩擦面上形成的表面膜对其摩擦学特性的影响[J].机械工程学报,1997,33(2):26-31. 被引量：3
