摘要
用分子动力学方法计算模拟了单晶铜中纳米孔洞(约φ1.3nm)在〈111〉晶向冲击加载过程中的演化及其周围区域发生塑性变形的过程。模拟结果的原子图像如图1所示,其中活塞速度为500m/s,图中所示为4族连续三层穿过孔洞中心的{111}晶面在4000个时间步时(处于拉伸应力状态)的原子排列图像。从面心立方铜晶体中位错成核及运动特点可知,当位错在{111}面上成核和运动后,将产生层错和部分位错结构,我们正是根据此特点来判断在某{111}晶面上是否有位错的成核和运动。从图1可以看到,沿〈111〉晶向冲击加载后,
出处
《中国工程物理研究院科技年报》
2008年第1期17-19,共3页
Annual Report of China Academy of Engineering Physics