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光数字半导体0.10微米器件测试技术
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摘要
项目所有人:杨文革 所在国:美国 专业:半导体工业 学历:博士 已申请专利 项目简介: 对0.10微米以下的半导体制作,测量元件的关键尺寸已成为一个很大的挑战。现有的设备已经没有能力提供准确的测量结果。
出处
《电脑与电信》
2009年第4期24-24,共1页
Computer & Telecommunication
关键词
半导体工业
测试技术
微米
器件
测量元件
关键尺寸
分类号
F416.63 [经济管理—产业经济]
TQ174.758 [化学工程—陶瓷工业]
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电脑与电信
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