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电弧离子镀沉积TiN/AlN-TiAlN复合膜的耐磨性 被引量:4

Wear Resistance of Arc Ion Plating Deposited TiN/AlN-TiAlN Film
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摘要 采用高纯铝、钛靶材,通过电弧离子镀工艺在TC4基材上沉积制备了TiN/AlN-TiAlN复合多层膜,用HV-1000型显微硬度计测试了膜层的硬度,用球盘磨损试验对比研究了膜层和基材的耐磨性。结果表明:膜层硬度为2856HV,耐磨性相比基材提高6倍以上。 TiN/AlN-TiAlN film were prepared on the Ti-6Al-4V alloy substrate by arc ion plating technique using high pure titanium and aluminum targets. HV-1000 micro-hardness gauge and ball-on-disk wear tester were employed to measured hardness and wear resistance of the TiN/AlN-TiAlN flm. The results show that micro-hardness of TiN/AlN-TiAlN film is about 2856 HV, wear resistance of TiN/AlN-TiAlN film is about 6 times of the Ti-6Al-4V alloy substrate.
出处 《装备制造技术》 2010年第2期1-2,10,共3页 Equipment Manufacturing Technology
基金 广西制造系统与先进制造技术重点实验室开放基金项目(桂科能0842006_035_K)
关键词 电弧离子镀 复合膜 耐磨性 arc ion plating(AIP) composite film wear resistance
  • 相关文献

参考文献4

二级参考文献36

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共引文献55

同被引文献86

引证文献4

二级引证文献19

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