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绿豆下胚轴质膜氧化还原系统及其对水分胁迫的反应 被引量:4

The Redox System in Plasma Mebrane of Mungbean Seedling Hypocotyl and Its Response to Water Stress
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摘要 绿豆幼苗下胚轴质膜存在有能氧化NADH和还原K3Fe(CN)6的氧化还原系统。其最适pH为7.5,最适温度为40℃,去垢剂TritonX-100对膜制剂的氧化还原活性有促进作用。外源电子供体NADH和电子受体K3Fe(CN)6的加入可促进下胚轴组织的H+分泌。水分胁迫下活体质膜和离体质膜的K3Fe(CN)6还原活性都下降,变化趋势相似。 The redox system which can oxidize NADH and reduce K 3Fe(CN) 6 is present in the plasma membrane of mungbean seedling hypocotyl,with its best pH value being 7.5 and optimum temperature 40℃.PM rdox activities are activated upon additon of 0.05% Triton X-100. Application of electron donor NADH and electon receptor K 3Fe(CN) 6 can enhance H + extrusion of mungbean seedling hypocotyl.Under water stress the abilties of PM both in vivo and in vitro to reduce K 3Fe(CN) 6 are decreased and their changes are similar.
出处 《干旱地区农业研究》 CSCD 北大核心 1999年第1期78-82,共5页 Agricultural Research in the Arid Areas
基金 国家自然科学基金
关键词 绿豆 氧化还原系统 水分胁迫 mungbean( Phaseolus radiatus L.) redox system water stress
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参考文献9

二级参考文献30

共引文献99

同被引文献34

引证文献4

二级引证文献17

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