摘要
微电子学(Micro-electronics)已突破Moore定律,进入纳米电子学(Nano-electronics)时代。光子的传播速度(1012cm/s)比电子传播速度(109cm/s)快得多,纳米光学和光子学材料及器件的发展正是迎合这种快速和高密度信息技术的需求。先进的纳米光学和纳米光子学器件应该是快速、高分辨率和高集成的,形成各类光学和光子学芯片和盘片。先进的材料是突破各类功能芯片的关键。在各类电子学以及光学和光子学的纳米芯片和器件制造过程中,纳米刻蚀工艺是一个关键。与电子束、离子束和X射线刻蚀工艺相比较,光刻是一种易控制、大面积、高速度和低价格的制造工艺。目前,光刻分辨率受限于光的衍射极限,分辨率取决于Airy斑的大小,主要靠缩短光束的波长和增大物镜的数值孔径来提高,已接近可达到实用化纳米光刻的极限。突破光的衍射极限,在光的远场和近场应用超分辨率技术,是当前重要的前沿课题。发展用于光学超分辨率的各种功能材料以及新的刻录介质材料是这一新的重大创新技术的关键。
出处
《功能材料信息》
2010年第5期16-20,共5页
Functional Materials Information
基金
国家自然科学基金委(No.11054001)的支持
