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阴极真空弧沉积中MEVVA源两种工作状态的比较

A COMPARISON OF TWO WORKING MODES OF THE MEVVA SOURCE IN VACUUM ARC DEPOSITION SYSTEM
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摘要 介绍了阴极真空弧沉积中,弧源在阴极接地和阳极接地2种不同工作状态下的工作特性.发现阳极接地时,因沉积靶室入口法兰的第二阳极作用,聚焦磁场对孤源放电稳定性的影响不如阴极接地时明显.因此可以加较高的聚焦磁场,从而获得电流较大和较稳定的沉积离子束. Investigations about the MEVVA plasma source performance in cathodic vacuumare deposition are presented. Becarse of the second anode action of the grounded-chamber,the influence of the focus magnetic field to the stability of the arc discharge is weakened with ground-anode than that with grounded-cathode. Therefore, higher ion intensity and more stable working state are observed with grounded-anode.
出处 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期366-369,共4页 Journal of Beijing Normal University(Natural Science)
基金 国家"八六三"计划资助!863-715-008-0040 国家教育部射线束材料工程实验室资助
关键词 真空弧沉积 阳极接地 等离子体源 阴极 MEVVA源 arc deposition grounded-anode grounded-cathode MEVVA plasma source
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