CVD金刚石膜研究进展和应用被引量：2

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摘要评论国内外化学气相沉积的金刚石膜制备技术，核化和生长，性质表征、异质外延生长及其应用等方面研究的最新进展和应用前景。

作者王万录廖克俊

机构地区重庆大学应用物理系

出处《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1999年第A10期55-59,共5页 Vacuum Science and Technology

关键词金刚石薄膜化学气相沉积生长机制外延生长

分类号 O484 [理学—固体物理] O613.71 [理学—无机化学]

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真空科学与技术

1999年第A10期

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