期刊文献+

化学气相沉积法制备钨管性能研究 被引量:5

The Research of Performance of Tungsten Tube Prepared by Chemical Vapor Deposition
下载PDF
导出
摘要 以WF6、H2为原料,采用化学气相沉积法沉积制备出不同直径难熔金属钨管。对不同沉积温度(500℃,600℃,700℃)沉积制备钨管的纯度、密度、显微硬度、残余应力及钨管强度进行了测试与分析研究。研究结果表明:沉积制备钨管具有高纯度和高致密度;随着沉积温度、钨管半径(3~20 mm)不同,显微硬度值在500~800 HV之间;沿钨管圆周、半径方向存在较大残余应力;抗拉强度范围在300~500 MPa. Refractory metal tungsten tubes of different diameter have been prepared successfully by chemical vapor deposition with the mixture of WF6 and H2.The purity,density,micro-hardness,residual stress and strength of tungsten tubes at different deposition temperatures(500℃,600℃,700℃) were tested and analyzed.The results show that tungsten tubes prepared in this way demonstrate high purity and high density.At different deposition temperatures,micro-hardness values of tungsten tube of different radius(3-20mm) change between 500 and 800HV.A relatively high residual stress exists along the tungsten tube circumference,radius of the direction.And the tensile strength range is 300-500MPa.
出处 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期703-706,共4页 Acta Armamentarii
关键词 金属材料 化学气相沉积 组织 性能 metallic material CVD tungsten microstructure performance
  • 相关文献

参考文献10

二级参考文献18

共引文献53

同被引文献89

引证文献5

二级引证文献27

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部