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极紫外光刻技术被引量：1

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摘要介绍了美国和欧洲在极紫外光刻技术的开发和研究中的进展和发展极紫外光刻的关键技术。

作者童志义

机构地区信息产业部电子第四十五研究所

出处《电子工业专用设备》 1999年第4期1-8,共8页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词光刻极紫外光源多层涂复扫描曝光

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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电子工业专用设备

1999年第4期

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