期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息

英语和兰州方言的音位对比

下载PDF
导出
摘要 本论文以兰州方言区非英语专业大学生为研究主体,比较了英语音位和兰州方言音位的主要特征,从而找出兰州方言区大学生学习英语发音的难点所在。通过研究和分析得出结论,兰州方言在大学生英语学习方面起着一定的抑制和干扰作用,特别是语音语调上的问题相当普遍,已成为学生进行英语交流的一大障碍,而且还给学生在心理上造成了负面影响。本论文同时分析了兰州方言对学生英语语音形成负迁移影响的原因,并提出一些英语语音教学中可行的建议。
作者 马燕
机构地区 兰州城市学院外国语学院
出处 《甘肃科技纵横》 2011年第6期151-152,共2页 Scientific & Technical Information of Gansu
关键词 兰州方言 英语音位 元音 辅音
分类号 H17 [语言文字—汉语]
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献7

  • 1[2]Raghavan G,Chiang C,Anders P B,et al.Diffusion of copper through dilectric films under bias temperature stress.Thin Solid Films,1995; 262: 168
  • 2[3]Suh B S,Lee Y J,Hwang J S,et al.Properties of reactively sputtered WNx as Cu diffusion barrier.Thin Solid Films,1999; 348: 299
  • 3[4]Chuang J C,Chen M C.Properties of thin Ta-N films reactively sputtered on Cu/SiO2/Si substrates.Thin Solid Fims,1998; 322:213
  • 4[5]Wang M T,Lin Y C,Chen M C.Barrier properties of very thin Ta and TaN layers against copper diffusion.J Electrochem Soc,1998; 145:2 538
  • 5[6]Staverev J M,Fischer D,Wenzel C,et al.Crysta-llographic and morphological characterization of reactively sputtered Ta,Ta-N and Ta-N-O thin films.Thin Solid Films,1997; 307: 79
  • 6[7]Tsai H Y,Sun S C,Wang S J.Characterization of sputtered tantalum carbide barrier layer for copper metallization.J Electrochem Soc,2000; 147: 2 766
  • 7[8]Yap K P,Gong H,Dai J Y,et al.Integrity of copper-tantalum nitride metallization under different ambient conditions.J Electrochem Soc,2000; 147:2 312

共引文献81

甘肃科技纵横
2011年 第6期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部