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相图——解释金属化层稳定性和薄膜反应的热力学方法

Phase Diagram—a Thermodynamic Method of Explaining Metallization Layer Stability and Thin Film Reactions
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摘要 介绍了计算相图的起因与发展 ,综述了利用 Gibbs生成自由能数据绘制简化的三元、四元相图的热力学方法 ,尤其是确定相图中直达连线的思想方法 ,最后给出了利用相图来解释金属化层稳定性和薄膜反应的应用实例。 The origin and development of calculated phase diagrams are introduced,and a thermodynamic method of constructing simplified ternary and quaternary phase diagrams using known data for Gibbs free energy of formation,especially the determination method of stable tie lines in a phase diagram is reviewed.In the end,examples of interpreting metallization layer stability and thin film reactions by phase diagrams are given.
作者 岳瑞峰 王燕
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期10-13,共4页 Semiconductor Technology
关键词 相图 金属化层 稳定性 薄膜反应 热力学 Phase diagram Metallization layer stability Thin film reaction Thermo dynamic approach
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