国内外光刻胶处理装置的发展概况被引量：1

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摘要本文以亚微米工艺的批量生产为目的,对匀胶/显影机及有关光刻胶处理系统的一些设备的国内外的概况做一综述。

作者白荣宗

机构地区七

出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1991年第5期8-11,共4页 Semiconductor Technology

关键词微细加工光刻胶处理装置半导体

引证文献1

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半导体技术

1991年第5期

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