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中国硅晶体专利现状分析

Analysis of Current Situation of Patents About Silicon in China
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摘要 采用国家知识产权局的专利检索与服务系统及中国专利检索系统文摘数据库,并以中国专利文献检索系统为补充,采集在我国申请的硅晶体专利文献。对专利类型、申请量年度分布、地域分布、重点技术领域分布、主要申请人、PCT专利申请以及专利审批结果等情况进行统计分析,以期揭示我国硅晶体专利申请的整体发展趋势。 Chinese patents on silicon crystal are collected with the patent search and service system of SIPO in the China patent retrieve system abstract database, and the China patent retrieval system is used as a supplement. Sit- uations of the type distribution, annual distribution, area distribution, major technology distribution, major applicants distribution, PCT applications and approval of patents are analyzed, so as to reveal the developing trend of patents on silicon crystal in China.
出处 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期121-124,共4页 Materials Reports
关键词 硅晶体 专利 中国专利检索系统文摘数据库 分析 silicon crystal, patent, China patent retrieve system abstract database, analysis
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