期刊导航
期刊开放获取
重庆大学
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
移相掩模为光学微细加工技术增添新武器
下载PDF
职称材料
导出
摘要
通过对国外光学微细加工技术发展现状的介绍,和对提高光学成像分辨率的各种途径的分析比较,提出了在加强光学曝光设备和抗蚀剂材料工艺开发的同时,立即着手研究移相掩模技术的主张。
作者
刘恩荣
机构地区
机电部第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
1991年第2期1-8,共8页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
光学
微细加工
移相掩模
掩模
加工
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
钱小工.
移相掩模技术改进了i-线光刻的分辨率[J]
.半导体情报,1992(1):53-56.
2
王国雄.
成品率驱动的光刻校正技术[J]
.半导体技术,2005,30(6):10-13.
被引量：1
3
Isamu Hanyu,钱小工.
具有高透明SiO_2移相器的新的移相掩模[J]
.半导体情报,1992(3):46-52.
4
孙再吉.
i线光学光刻技术及其发展潜力[J]
.固体电子学研究与进展,1999,19(4):438-447.
被引量：1
5
楢冈清威,何恩生.
适用于移相掩模的光刻模拟[J]
.半导体情报,1992(3):53-58.
6
谢常青.
深亚微米光学光刻工艺技术[J]
.电子工业专用设备,2000,29(3):8-12.
被引量：2
7
Hideyuki Jinbo,江泽流.
采用移相掩模技术实现≤0.2μmi线光刻[J]
.半导体情报,1992,29(5):26-30.
8
刘恩荣.
移相掩模技术及其发展前景[J]
.电子工业专用设备,1992,21(4):30-39.
被引量：1
9
冯一萌.
招行端出手机新武器[J]
.新金融世界,2012(12):42-43.
10
沈晖.
短消息的新武器[J]
.中国计算机用户,2002(28):32-32.
电子工业专用设备
1991年 第2期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
