摘要
高纯Au、Ag、Pt、Ru贵金属及其合金溅射靶材是半导体PVD工艺制程中的溅射源材料,广泛用于半导体制造工艺中,成为保证半导体器件性能和发展半导体技术必不可少及不可替代的材料。材料的高纯化、高性能贵金属及其合金靶材的制备(金属熔铸、热机械处理、粉末烧结、焊接等)以及贵金属靶材残靶及加工余料残屑的提纯回收利用是研究发展的重点,以实现贵金属靶材产品的高效增值。
High-puritY Au, Ag, Pt, Ru precious metals and alloys material targets make a very v role in semiconductor manufacturing. Purifying of raw materials, fabricating of high performance target （melting casting, thermal mechanical processing, powder sintering and bonding, etc.）, recycling and refining of spent precious materials are important processes for precious metal target product development and application.
出处
《贵金属》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第S01期79-83,共5页
Precious Metals
基金
2012年国家科技支撑计划项目(2012BAE06B06
2012BAE06B07)资助
关键词
金属材料
半导体
溅射靶材
高纯
金
银
铂
钌
metal material
semiconductor
sputtering target
high purity
Au
Ag
Pt
Ru
