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基于专利计量视角的我国本体技术发展态势分析 被引量:5

Technological Development Situations of Ontology in China Based on Patentometrics
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摘要 以Patentics中外专利检索系统作为数据源,从专利申请量、技术领域分布、主要研究机构、主要发明者、热点领域等方面对我国本体技术发展态势进行分析,揭示国内本体技术的发展趋势、技术热点、行业领先企业、技术领军人物,比较各研发机构在本体技术领域的创新性和研发实力,绘制当前本体技术发展的专利地图,进而获取重要的战略性信息和创新性信息,在此基础上对我国发展和利用本体技术提出建议。 Based on Patentics, this article conducts patent analysis of the technological development situations of ontology in China from patent applications, technical field distribution, the main research institutions, the main inventors, hot fields to reveal the development trend, technical hotspots, leading enterprises, technology leader of domestic ontology technology; it also compares the innovation and R&D strength of the research and development institutions in the field of ontology technology, maps current ontology technology patents, and gains access to essential strategic information and innovation information. Suggestions on development and utilization of ontology tech nology in China are put forward at last.
作者 支丽平
出处 《情报杂志》 CSSCI 北大核心 2014年第6期79-83,共5页 Journal of Intelligence
基金 河南省教育厅科学技术研究重点项目"专利领域本体自动化构建方法研究"(编号:14A520078)的研究成果之一
关键词 专利计量 本体 Patentics 专利分析 技术趋势 中国专利 Patentometrics ontology Patentics patent analysis technological trend Chinese patent
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参考文献7

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