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坐标测量机高精度测头技术 被引量:8

High-Precision Probe Technology for CMM
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摘要 介绍了坐标测量机高精度测头的研究发展现状 ;分析了接触方式、光学方式、扫描方式测头的优缺点 ;研究了日本松下公司研制的高精度测头测量原理 ;基于原子力微探针的基本原理 ,设计了一种新型的坐标测量机测头 ;指出了采用原子力准接触技术是测头向高精度发展的方向之一。 Research and development status of high-precision probe of CMM is introduced; advantages & disadvantages of contact, optical and scanning probe are analyzed; measuring principle of high-precision measurement developed by Japanese Panasonic Co. is studied; a new type of CMM probe is designed based on the basic principle for atomic force micro probe. The text points out that to use atomic force near-contact technology is one of the tendencies for probe to develop toward high-precision one.
作者 孙涛 张龙江
机构地区 哈尔滨工业大学
出处 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2001年第10期28-29,30,共3页 Manufacturing Technology & Machine Tool
基金 哈尔滨青年科学基金"坐标测量机纳米精度瞄准测头的技术研究"(项目编号 :9961 2 1 80 1 0 )资助
关键词 三坐标测量机 测头 原子力微探针 CMM, Probe, Atomic-force Micro Probe
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献5

  • 1Xu Y,Precis Eng,1996年,19卷,1期,46页
  • 2Zhao X,Hochaufl㈤sende dreidimensionale Positionierungsbestimmung bei Rastersondenmikroskopen mittels kapazitiver Aufnehmer,1995年
  • 3Jusko O,Probe Microscopes for the Measurement of Micro-and Nano-Sturctures,1995年,32页
  • 4Bai C,Tunneling Microscopy and its Application,1995年
  • 5Jusko O,Rev Sci Instrum,1994年,65卷,8期,2514页

共引文献40

同被引文献74

引证文献8

二级引证文献65

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