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表面分析仪器及其技术进展之三:表面分析:XPS和AES
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摘要
本述评综合了1997年10月到1999年10月期间国际上在表面分析领域的发展情况,着重强调这些技术在目前发展水平方面改进的思路和新趋势。本文将有助于分析工作者解决在使用XPS和AES时所遇到的问题。
作者
黄惠忠
机构地区
北京大学物理化学研究所
出处
《国外分析仪器技术与应用》
2001年第3期1-15,共15页
Foreign Analytical Instrumentation
关键词
校准
背景扣除
价带谱
协同效应
多重分裂
深度剖析
XPS
AES
表面分析仪器
分类号
TH838 [机械工程—精密仪器及机械]
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国外分析仪器技术与应用
2001年 第3期
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