摘要
大量锰存在时钴的电位滴定曾研究过用焦磷酸钠来掩蔽三价锰来消除干扰。国内有人用氯酸钾沉淀分离锰后滴定钴。此法可消除大量锰的干扰。一九八三年国家标准方法规定钴的电位体系中锰的允许量3mg以下。本文通过一系列掩蔽剂对三价锰的掩蔽效应试验,发现氟化钾对三价锰有良好的掩蔽能力,并拟定一种快速测定大量锰共存时钴的电位滴定方法,在测定20mg钴时,锰的允许量为50mg,钢铁中通常的一些金属离子不干扰钴的测定。
出处
《上海钢研》
1991年第2期39-41,45,共4页
Journal of Shanghai Iron and Steel Research
