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一个会切阳极小矩形磁控源研究

STUDY OF A SMALL RECTANGULAR MAGNETRON SPUTTERING SOURCE WITH MULTIPOLE MAGNETIC FIELD
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摘要 磁控源通常工作于0.1Pa~10Pa真空,常规的磁路设计难以使源小型化.单环靶面积利用率仅约30%,多环靶利用率达80%,但结构复杂.为此,我们研制了适合实验室使用的具有会切磁场阳极的小磁控原子源.1 源结构与特色磁控靶的性能分析及磁控靶场设计的理论计算与经验公式表明:磁控源的溅射速率随靶材而异,但与工作电压,气压及磁场强度的最佳匹配有关.磁控源靶磁路构成封闭环形跑道且水平磁场达数百高斯,是磁控放电的关键.
作者 郑思孝
出处 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1991年第3期398-400,共3页 Journal of Sichuan University(Natural Science Edition)
  • 相关文献

参考文献3

  • 1应根裕,真空科学和技术,1985年,5卷,30页
  • 2范玉殿,真空,1982年,5卷,1页
  • 3王文如,真空,1982年,5卷,8页

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