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药厂塔类设备有机垢化学清洗新工艺

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摘要讨论了塔类设备有机垢的生成原因 ,简要介绍了清洗剂选择条件。

作者陈仲祥高慧琴

机构地区河北科技大学机械电子工程学院

出处《河北化工》 2002年第2期22-22,24,共2页 Hebei Chemical Industry

关键词制药设备清洗剂有机垢塔类设备化学清洗

分类号 TQ460.5 [化学工程—制药化工]

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河北化工

2002年第2期

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