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添加剂对化学镀铜的影响 被引量:10

The effect of additives on electroless copper plating on ceramic surface
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摘要 研究了亚铁氰化钾和α ,α′ -联吡啶对陶瓷表面化学镀铜沉积速率、阻抗、镀层晶体结构和外观的影响。加入亚铁氰化钾 ,铜沉积速率降低 ,阻抗增大 ,镀层外观得到改善 ,镀层晶体呈无序生长 ;α ,α′ -联吡啶的加入对铜沉积的抑制更明显 ,镀层晶体取向为 (2 ,2 ,0 )。 The effect of potassium ferrocyanide and α,α′-dipyridyl on deposition rate, impedance, microstructure and appearance of electroless copper deposits on ceramic surface was studied. Results show that the addition of potassium ferrocyanide reduces the deposition rate, increases impedance of copper deposition, improves appearance of copper deposits, and results in the disordered crystal growth of copper deposits, while the addition of α,α′-dipyridyl restrains copper deposition further more, and transfers the crystal orientation of copper deposits to (2,2,0).
出处 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2002年第3期24-28,共5页 Electroplating & Finishing
关键词 添加剂 化学镀铜 陶瓷 电镀 electroless copper plating ceramics
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献3

  • 1徐喜初,电镀与精饰,1987年,9卷,6期,12页
  • 2团体著者,表面处理工艺手册,1991年
  • 3团体著者,电镀原理与工艺,1978年

共引文献29

同被引文献66

引证文献10

二级引证文献35

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