期刊文献+

深亚微米SOI工艺的输出结构ESD研究 被引量:3

Improved ESD Characteristics of Output Buffer in Deep Sub-Micron SOI Technology
下载PDF
导出
摘要 SOI(Silicon-On-Insulator)是一种在未来很有竞争优势的工艺技术,但由于其与体硅工艺结构上的不同,给其ESD设计带来了额外的挑战。通过串联的NMOS管来提高输出管的触发电压,以提升输出缓冲器的ESD能力。 Silicon-on-insulator(SOI) is a potential high-performance technology due to its inherent structural advantage over bulk Silicon-based technology. However, the structural differences create additional challenges for providing ESD protection in SOI devices. The paper utilizes SOI's structural advantage of series N M O S to improve ESD characteristics of output buffer.
出处 《电子与封装》 2017年第12期45-47,共3页 Electronics & Packaging
关键词 0SOIdESDd 输出 缓冲器 SOI ESD output buffer
  • 相关文献

同被引文献7

引证文献3

二级引证文献5

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部