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X射线激光干涉对晶体精密测量 被引量:3

Precise Measuring of Crystals by X-Ray Laser Apparatus Interference
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摘要 基于X射线激光脉冲短、单色性好、能量高而且相干程度高的优点,本文从理论上提出X射线激光干涉用于对晶体结构及缺陷的测量。由于X射线激光波长量级为10^(-10) m,因此可实现高精密测量。此外,本文给出了X射线激光测量晶体的装置、缺陷晶体的测量模型和晶体参量的测量模型。 Based on the advantages of short X-ray laser pulse,excellence monochromaticity, high energy and superior coherence,X-ray laser interferometry is proposed to measure crystal structures and defects in this paper. As the X-ray laser apparatus wavelength of the order of 10-10m,high-precision measurement can be realized. In addition, X-ray laser measurement of crystal devices system, defective crystal measurement model and crystal parameter measure- ment model are provided in this paper.
作者 张超 茆慧玲
出处 《光散射学报》 北大核心 2017年第4期372-375,共4页 The Journal of Light Scattering
关键词 X射线激光 干涉 精密测量 模型 X-ray laser interference high-precision measurement model
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献30

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共引文献5

同被引文献48

引证文献3

二级引证文献1

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